超純水核心定義與技術(shù)指標(biāo)
超純水的“超純”不僅遠(yuǎn)超日常飲用水,更顯著區(qū)別于醫(yī)藥行業(yè)的“純化水”或?qū)嶒?yàn)室“去離子水”。其近乎“本征”的純凈度使其成為現(xiàn)代高精尖產(chǎn)業(yè)不可或缺的原材料。
核心指標(biāo)包括:
1、電阻率:25℃下達(dá)到18.25 MΩ·cm(極限理論值),實(shí)際應(yīng)用中要求≥18.0 MΩ·cm,表明其導(dǎo)電離子幾乎被完全去除。
2、顆粒物控制:≤100個(gè)/L(要求每升水中,符合特定尺寸條件的顆粒物數(shù)量不能超過(guò)100個(gè)。對(duì)于特定尺寸如≥0.05 μm(直徑0.05微米)的顆粒要求更高。
3、溶解氧:低至ppb級(jí)或更低。
4、微生物:<1 CFU/100mL(每100毫升樣品中微生物少于1個(gè)真菌計(jì)量的單位:CFU)或趨向于“零”(零微生物)。
5、特定離子濃度:如硅、鈉、氯離子、硫酸根等被控制在極低ppb或ppt(萬(wàn)億分之一)級(jí)。
其關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域便是半導(dǎo)體與集成電路制造中的晶圓清洗:超純水必須在數(shù)十甚至數(shù)百次清洗中去除細(xì)微顆粒、金屬離子、有機(jī)殘留等污染物,避免導(dǎo)致線路短路、斷路或影響器件性能。
其次便是平板顯示行業(yè):用于TFT-LCD、OLED玻璃基板的清洗與蝕刻工藝。屏幕越大,缺陷容忍度越低,對(duì)超純水的潔凈度要求越高,對(duì)顆粒尤其是納米級(jí)顆粒、TOC、金屬離子的控制極其嚴(yán)格。
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